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射頻易商城_芯片電容_如何制作超級(jí)電容器芯片①

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超級(jí)電容器芯片的制作方法簡(jiǎn)介①


本發(fā)明提供一種超級(jí)器芯片的制備方法、超級(jí)電容器芯片及超級(jí)電容器,其提供一具有導(dǎo)電線路的襯底;在所述襯底上形成兩個(gè)獨(dú)立設(shè)置的集流體,每個(gè)所述集流體電連接至襯底的導(dǎo)電線路之上;在其中一所述集流體上制備正電極,在另一所述集流體上制備負(fù)電極,并在正電極與負(fù)電極之間形成固態(tài)/準(zhǔn)固態(tài)電解質(zhì)膜,得到多層膜; 將所述多層膜用封裝膜進(jìn)行封裝保護(hù),得到超級(jí)電容器芯片。利用上述方法制備得出的超級(jí)電容器芯片集成超級(jí)電容器后能夠滿足大電流或大電壓的使用需求。1 .一種超級(jí)電容器芯片的制備方法,其特征在于:其包括以下步驟:步驟S1,提供一具有導(dǎo)電線路的襯底;步驟S2,在所述襯底上形成兩個(gè)獨(dú)立設(shè)置的集流體,每個(gè)所述集流體電連接至襯底的導(dǎo)電線路之上;及步驟S3,在其中一所述集流體上制備正電極,在另一所述集流體上制備負(fù)電極,并在正電極與負(fù)電極之間形成固態(tài)/準(zhǔn)固態(tài)電解質(zhì)膜,得到多層膜;步驟S4,將所述多層膜用封裝膜進(jìn)行封裝保護(hù),得到超級(jí)電容器芯片。2.如權(quán)利要求1中所述的超級(jí)電容器芯片的制備方法,其特征在于:步驟S1中所述襯底的材料包括絕緣材料,具體包括布料、海綿、紙基材料、PET、PI、mSiO 2 · nH2 O、聚氨酯中的任一種,所述襯底在使用前可進(jìn)行清洗處理。

3.如權(quán)利要求1中所述的超級(jí)電容器芯片的制備方法,其特征在于:步驟S2中所述集流
體包括不銹鋼、Cu、Ni、Al、Au、Ag中的任一種。


推薦產(chǎn)品一、麗芯微電  100pF, ≥1G@50V, 單面留邊 單層芯片電容


型號(hào):C12-15-50V-101
容值/容差:100pF / ±20%
溫度系數(shù):±15%@-55~+125℃
絕緣電阻@電壓:≥1G@50V
損耗@頻率:≤2.5@1MHz
封裝尺寸:0.381*0.381*0.178 mm
性能特點(diǎn):尺寸小、容值大,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,單面電極留有絕緣邊;采用MM結(jié)構(gòu),產(chǎn)品寄生參數(shù)小,使用頻率高至100GHz;表面純金電極,適合金絲、金帶等微組裝工藝;適合Au/Sn、Au/Si、Au/Ge 共晶焊,以及Sn /Pb、導(dǎo)電膠粘接;七專級(jí)/ 普軍級(jí)可選。


推薦產(chǎn)品二、麗芯微電  10pF, ≥100G@100V, 單面留邊 單層芯片電容


型號(hào):C12-15-100V-100
容值/容差:10pF / ±20%
溫度系數(shù):±15%@-55~+125℃
絕緣電阻@電壓:≥100G@100V
損耗@頻率:≤4.0@1KHz
封裝尺寸:0.381*0.381*0.178 mm
性能特點(diǎn):尺寸小、容值大,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,單面電極留有絕緣邊;采用MM結(jié)構(gòu),產(chǎn)品寄生參數(shù)小,使用頻率高至100GHz;表面純金電極,適合金絲、金帶等微組裝工藝;適合Au/Sn、Au/Si、Au/Ge 共晶焊,以及Sn /Pb、導(dǎo)電膠粘接;七專級(jí)/ 普軍級(jí)可選。

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