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高電容密度硅基MIS芯片電容③
電容 器 的性 能 很 大 程 度 _j 取 決 于 介 質(zhì) 層 的 質(zhì)量 ,尤其 對(duì) 于 3D-M IS 電容 來(lái)說(shuō) ,刻 蝕 后孔 的 深 寬 比很 高 ,孔 內(nèi) 介 質(zhì) 均 勻 淀 積 的 難 度 很 大 。實(shí) 驗(yàn) 采 用0 N () 復(fù) 合 介 質(zhì)層 ,第 一 層 s i() 采 用 熱 氧生 長(zhǎng).第二層 Si。 N 與第 三 層 Si( )! 均 采 用 低 壓 化 學(xué) 氣 相 沉積( L ow p ress ure ch em ic al vapo r depo sitio n ,
L PC V D ) 生 長(zhǎng) 。采用 這 種 O N( ) 復(fù) 合介 質(zhì) 層 既 可 以保 證 介 質(zhì) 層 與 孔 側(cè) 壁 的 良 好 粘 附 性 ,另 外 由 于Si。N 的 引 入可 以 有 效 提 高 介 質(zhì) 層 的 介 電 常 數(shù) ,有助 于進(jìn) 一步 提 高 電容密 度 。 圖 4 足這 種 復(fù)合介 質(zhì)層的 SE M 圖 ,可 以 看 出 介 質(zhì) 層 的 覆 蓋 均 勻 性 良好 。介 質(zhì)層 淀 積后 還需 進(jìn) 行 孔 內(nèi) 導(dǎo) 電 物 的填 充 ,一 方 面達(dá) 到表 面平 坦 化 的 目 的 ,利 于后續(xù) 電極 的制備 ,另一方面 使導(dǎo) 電物 與深孑L內(nèi)部 的介 電層充 分接 觸達(dá) 到 電容有 效 面積 的 化 。 實(shí)驗(yàn) 采用 摻雜 多 晶硅進(jìn) 行孔內(nèi)填 充 ,因 為 摻 雜 多 晶 硅 相 比金 屬 其 熱 膨 脹 系 數(shù) 與硅更 為 接 近 ,可 以有效 避 免 在 高 溫 下 由 于 熱 失 配造成 的硅柱 變形 甚至 斷裂 。 如 圖 5(a ) 所 示 ,當(dāng) 生 長(zhǎng)溫度較 高時(shí) ( 620℃ ) ,多 晶硅在 深孔 上部 生 長(zhǎng)速率 高 于底 部 ,容 易形成 不 完全 填 充 從 而 局 部 會(huì) 出 現(xiàn) 一些 空洞或 者縫 隙 。 如 圖 5( 1 ) 所示 ,當(dāng) 將 生 長(zhǎng)溫 度 降 低 至580℃時(shí) ,深 孔 上 部 的沉 積 速 度得 到 了 有 效 抑制 ,從而實(shí) 現(xiàn) 了 深孔 內(nèi) 部 的無(wú) 空洞 填充 以及 表面 平坦 化 。
推薦產(chǎn)品一、麗芯微電10000pF, ≥1G@25V, 單面留邊 單層芯片電容
型號(hào):C12-90-25V-103
容值/容差:10000pF / ±20%
溫度系數(shù):±15%@-55~+125℃
絕緣電阻@電壓:≥1G@25V
損耗@頻率:≤2.5@1MHz
封裝尺寸:2.290*2.290*0.178 mm
性能特點(diǎn):尺寸小、容值大,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,單面電極留有絕緣邊;采用MM結(jié)構(gòu),產(chǎn)品寄生參數(shù)小,使用頻率高至100GHz;表面純金電極,適合金絲、金帶等微組裝工藝;適合Au/Sn、Au/Si、Au/Ge 共晶焊,以及Sn /Pb、導(dǎo)電膠粘接;七專(zhuān)級(jí)/ 普軍級(jí)可選。
推薦產(chǎn)品二、麗芯微電1000pF, ≥1G@50V, 單面留邊 單層芯片電容
型號(hào):C12-30-50V-102
容值/容差:1000pF / ±20%
溫度系數(shù):±15%@-55~+125℃
絕緣電阻@電壓:≥1G@50V
損耗@頻率:≤2.5@1MHz
封裝尺寸:0.762*0.762*0.178 mm
性能特點(diǎn):尺寸小、容值大,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,單面電極留有絕緣邊;采用MM結(jié)構(gòu),產(chǎn)品寄生參數(shù)小,使用頻率高至100GHz;表面純金電極,適合金絲、金帶等微組裝工藝;適合Au/Sn、Au/Si、Au/Ge 共晶焊,以及Sn /Pb、導(dǎo)電膠粘接;七專(zhuān)級(jí)/ 普軍級(jí)可選。
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